应用
Microgard™ Plus/Plus LE/LE 尼龙过滤器应用
- 行业：半导体、化学制造、数据存储
- 工艺：光刻、设备、湿法蚀刻和清洁、介质
- 润滑油、化学品制造
- 化学：光刻胶、光化学品、溶剂
- 安装点：散装
产品规格
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PLUS/PLUS LE |
LE 尼龙 |
| 材料 |
膜 |
疏水性UPE |
聚酰胺（尼龙 6） |
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膜面积 |
4 英寸 UPX: 10 nm: 9200 cm² (9.9 平方英尺)
其他: 8000 cm² (8.6 平方英尺) |
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10 英寸 10 纳米：13,200 厘米²（14.21 平方英尺）
20 纳米：12,000 厘米²（12.9 平方英尺）
其他：8000 厘米²（8.6 平方英尺） |
10”：7000 厘米²（7.5 平方英尺） |
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20 英寸 20 nm：24,000 厘米²（25.8 平方英尺）
其他：20,000 厘米²（21.5 平方英尺） |
20 英寸：14,000 厘米²（15.1 平方英尺） |
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30 英寸 30,000 厘米²（32.3 平方英尺） |
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10" 不对称 11,600 厘米² (12.5 平方英尺) |
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20" 不对称 23,200 厘米² (25 平方英尺) |
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支撑、芯套 |
高密度聚乙烯 |
高密度聚乙烯 |
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O 形密封圈 |
EPDM 和 E-FKM |
氟橡胶 |
| 留存率 |
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3、5、10纳米 |
10、20纳米 |
| 工作条件 |
最大正向压差： |
0.34 兆帕（3.4 巴、50 磅/平方英寸、3.5 千克/厘米²）@ 20°C（68°F） |
0.28 兆帕（2.8 巴、41 psid、2.9 千克/厘米²）@ 20°C (68°F) |
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最大反向压差： |
0.24 兆帕（2.4 巴、35 磅/平方英寸、2.5 千克/厘米²）@ 20°C（68°F） |
0.21 兆帕（2.1 巴、31 psid、2.2 千克/厘米²）@ 20°C（68°F） |
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工作温度 |
60°C（140°F） |
50°C（122°F） |
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LE 尼龙 |
| 材料 |
膜 |
聚酰胺 |
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支撑、芯套 |
高密度聚乙烯 |
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Chemlock 钥匙 |
肺动脉高压 |
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O 形密封圈 |
氟橡胶 |
| 筛选器类型 |
不对称 |
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| 膜面积 |
10 纳米、20 纳米、0.05 微米（70 毫米） |
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10”：0.71 平方米 |
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20”：1.42 平方米 |
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30”：2.13 平方米 |
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10 纳米，20 纳米（83 毫米） |
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10 英寸 1.31 平方米 |
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| 留存率 |
10 纳米、20 纳米、0.05 微米 |
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| 工作条件 |
最大正向压差： |
0.28 兆帕 @ 25°C (77°F) |
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最大反向压差： |
0.21 兆帕 @ 25°C (77°F) |
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工作温度 |
60°C（140°F） |